这也是国内芯片被卡脖子的主要原因。
“那你们学校光刻机的研发还在进行吗？”
“叔叔，我一个学生哪里知道那么多。不过我们学校在80年研制出第四代分步式投影光刻机之后，就已经很长时间没有出成果了。”
“第四代分步式投影光刻机？这个光刻机精度如何？”
“这一代分步式投影光刻机光刻精度可以达到3微米，在当时接近国际主流水平。”
何平这几年偶尔会搜集一些国内外关于半导体的资料，知道国外自七十年代就已经把研究发向转向了接近式光刻机，看来国内外的差距还是有不小的。
这种情况让他陷入了沉思。
后世一些民科经常会说我们国家七八十年代光刻机的研究水平与欧美日等发达国家不分伯仲，只是到了九十年代，大家都觉得造不如买，才放弃了自主研发，让国产光刻机事业十年难有寸进，导致后世发生中美贸易摩擦后被国外卡脖子的现象。
这种论调不能说子虚乌有，但只能说是以偏概全。
实际上的情况是1978年之前，经过二十多年的努力，我们国家的光刻机技术已经与西方拉近到十几年。
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