现在其实已经隐隐然有这种苗头了。
目前中芯国际虽然知道林本间采用了浸润式技术帮助台积电在60纳米以下取得了重大的突破，不过具体的做法和工艺技术，中芯国际是不知道的。
所以现在也是在摸着石头过河的阶段。
“浸润式技术从原理上来说并不复杂，不过还是那个问题，需要时间。”张如京有些愁闷地喝了一口酒，难受地说到，“我们正在尝试使用浸润式技术，明年提升到60纳米水准应该不成问题。”
使用浸润式技术进行芯片制作，就不需要进行多重曝光，良品率是有保障的，生产成本应该跟现在的90纳米芯片差不多。
所以即使明年博米没有45纳米的芯片，也能从中芯国际这边购买到60纳米。
不过曹阳肯定不会就此满足，博米的芯片设计还得继续深挖，要一直保持对苹果的领先，那么之后肯定要先引入台积电的45纳米芯片。
除非中芯国际能够弯道超车。
如果想要实现技术上的突破，超过台积电的话，还得从光刻机本身进行突破。但是我们国家目前为止，并没有能够独立生产光刻机的企业，准确来说是没有独立生产193纳米，甚至更短波段的光刻机水平。
现在是2006年，在光刻机领域当中，东岛的尼康才是老大，而未来的光刻机王者阿斯麦Amsl还没有崛起，第一台EUV光刻机要到2012年才能生产出来。
从时间上来说，或许我们还有机会。
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